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  金融界2024年10月31日音讯，国家知识产权局信息数据显现，重庆平伟实业股份有限公司请求一项名为“一种场效应晶体管的制作办法及场效应晶体管”的专利，公开号CN 118841328 A，请求日期为2024年8月。

  专利摘要显现，本请求供给一种场效应晶体管的制作办法及场效应晶体管，该制作办法经过离子注入的方法构成榜首导电类型半导体源区时，不添加场效应晶体管的形成工艺和本钱，使得不一样的区域的榜首导电类型半导体源区的掺杂浓度不同，因场效应晶体管的沟道密度下降，大大下降了寄生三极管的基极压降，削减寄生三极管敞开的危险，增强了场效应晶体管的抗热不稳定性和安全作业区，与具有虚拟元胞的器材比较，其导通电阻显着减小。